商品类型：半导体尾气处理设备
产品描述：低氮氧化合物（NOx）等离子火炬可释放超过3000℃的高温更高效的处理易燃气体、有毒气体和PFCs气体,尤其是对PFCs气体的处理能力经过特殊设计的水淋系统，水溶性尾气处理时并且不产生水雾
应用领域
适用高温等离子处理半导体或化合物制程气体
PFCs气体：CF4, SF6, NF3等
腐蚀性气体：Cl2, F2, BCl3, HBr等
可燃性气体：SiH4, TEOS, DCS, H2等
Dry Etch/Thin Film/Implant
低氮氧化合物（NOx）
等离子火炬可释放超过3000℃的高温
更高效的处理易燃气体、有毒气体和PFCs气体,尤其是对PFCs气体的处理能力
经过特殊设计的水淋系统，水溶性尾气处理时并且不产生水雾
